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题名:
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黑客与设计 hei ke yu she ji / (美)David Kadavy著 , 苑永凯译 |
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ISBN:
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978-7-115-34537-0 价格： CNY79.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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214页 图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 人民邮电出版社 出版日期： 2014 |
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内容提要:
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本书面向对于视觉艺术及技巧并不熟稔的软件开发人员，用心拾取艺术史上的众多知名概念及代表作品加以细致解读，并辅以多视角的延展剖析，以期使读者洞彻与把握现今设计概念和技巧的来源及趋势，从而将之更好地融合于业务实践中，题材广泛，实例丰富，实为一本不可多得的Web及移动应用设计指南。 |
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主题词:
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网页 设计 |
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中图分类法:
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TP393.092.2 版次： 5 |
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其它题名:
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剖析设计之美的秘密 |
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主要责任者:
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卡达维 ka da wei 著 |
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次要责任者:
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苑永凯 yuan yong kai 译 |
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责任者附注:
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责任者David Kadavy规范汉译姓：卡达维。 |
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责任者附注:
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David Kadavy，Kadavy公司总裁，兼500 Startups种子基金导师，Kadavy公司提供用户界面设计咨询服务，客户包括oDesk、PBworks和UserVoice等，曾领导过两家硅谷创业公司和一家建筑公司的设计部门，在大学教授过印刷课程，在爱荷华州立大学攻读平面设计专业美术学士学位期间，曾在罗马学习古代印刷术。 |
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索书号:
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TP393.092.2/2330 |