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题名:
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极端非线性光学 ji duan fei xian xing guang xue / (德)Martin Wegener著 , 王超, 康轶凡译 |
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ISBN:
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978-7-5609-6963-3 价格： CNY58.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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232页 图 25cm |
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出版发行:
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出版地： 武汉 出版社： 华中科技大学出版社 出版日期： 2015 |
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内容提要:
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本书在兼顾相关物理理论的基础上，以一个实验物理学家的视角展示了此新兴研究领域的概貌。其中第1章至第6章为基础部分，传统非线性光学中的相关关键结论在必要的时候亦给予了扼要复述。第7章及第8章则从整体上评述了极端非线性光学，以期引导读者掌握本领域最新的研究进展及成果。 |
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主题词:
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非线性 光学 |
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中图分类法:
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O437 版次： 5 |
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主要责任者:
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韦格纳 wei ge na 著 |
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次要责任者:
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王超 wang chao 译 |
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次要责任者:
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康轶凡 kang yi fan 译 |
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附注:
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“十二五”国家重点图书出版规划项目 湖北省学术出版基金资助项目 国家出版基金项目 |
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责任者附注:
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Martin Wegener，德国卡尔斯鲁厄理工学院应用物理系终身教授，德国科学院院士，美国光学学会会士，赫克托基金会会士，美国亚利桑那光学中心兼职教授，Nanoscribe公司（该公司起源于著名的卡尔斯鲁厄技术研究所（KIT），是世界顶尖的提供3D纳米微光刻设备的高科技企业）创始人。 |
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索书号:
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O437/5294 |