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题名:
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托尼克：设计为何 tuo ni ke：she ji wei he / (荷)格特·斯塔尔，(荷)托尼克著 , 周安迪等译 |
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ISBN:
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978-7-5321-7089-0 价格： CNY258.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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355页 图，照片 25cm |
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出版发行:
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出版地： 上海 出版社： 上海文艺出版社 出版日期： 2019 |
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内容提要:
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本书内容包括：乌得勒支中央博物馆、维姆·T. 席佩斯精选、“越过边缘”展览、首尔出租车、永远属于你、Droog Design设计图书、“数字之维”展览、阿姆斯特丹市政府等。 |
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主题词:
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平面设计 |
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中图分类法:
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J511 版次： 5 |
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其它题名:
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设计为何 |
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主要责任者:
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斯塔尔 si ta er 著 |
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主要责任者:
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托尼克 tuo ni ke 著 |
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次要责任者:
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周安迪 zhou an di 译 |
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附注:
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上海当代艺术博物馆 |
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索书号:
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J511/4217 |