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题名:
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碳化硅技术基本原理 tan hua gui ji shu ji ben yuan li / (日)木本恒暢, (美)詹姆士 A. 库珀(James A. Cooper)著 , 夏经华等译 |
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ISBN:
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978-7-111-58680-7 价格： CNY150.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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13,500页 图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 机械工业出版社 出版日期： 2018 |
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内容提要:
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本书是一本有关碳化硅材料、器件工艺、器件和应用方面的书籍，其主题包括碳化硅的物理特性、晶体和外延生长、电学和光学性能的表征、扩展缺陷和点缺陷；器件工艺、功率整流器和开关器件的设计理念；单/双极型器件的物理和特征、击穿现象、高频和高温器件；以及碳化硅器件的系统应用，涵盖了基本概念和最新发展现状，并针对每个主题做深入的阐释，包括基本的物理特性、最新的理解、尚未解决的问题和未来的挑战。 |
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主题词:
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碳化硅陶瓷 |
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中图分类法:
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TQ174.75 版次： 5 |
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主要责任者:
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木本恒暢 mu ben heng chang 著 |
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主要责任者:
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库珀 ku po 著 |
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次要责任者:
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夏经华 xia jing hua 译 |
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责任者附注:
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木本恒暢，京都大学电子科学与工程系教授，长期从事碳化硅材料、表征、器件工艺以及功率器件等方面的研究，是日本碳化硅界的 领军人物，在碳化硅的外延生长、光学和电学特性表征、缺陷电子学、离子注入、金属－氧化物－半导体物理和高电压器件等方面均有建树。 |
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责任者附注:
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詹姆士 A. 库珀，美国普渡大学电气与计算机工程学院的教授。 |
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索书号:
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TQ174.75/4021 |