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题名:
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多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析 [ 专著] Duo Xiang Liu Xuan Zhuan;Zhuai Ou He;Ge Chang Zhi Bei S i 3 N 4 Ke Li Wu Hua Guo Cheng Liu Chang Fen Xi / 廖达海，宁翔，吴南星著 , |
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ISBN:
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978-7-5639-7683-6 价格： CNY56.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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126页 图 24cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 北京工业大学出版社 出版日期： 2020 |
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内容提要:
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本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程，同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述。 |
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主题词:
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氮化硅陶瓷 制备 |
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中图分类法:
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TQ174.75 版次： 5 |
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主要责任者:
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廖达海 liao da hai 著 |
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主要责任者:
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宁翔 ning xiang 著 |
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主要责任者:
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吴南星 wu nan xing 著 |