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题名:
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等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用 [ 专著] deng li zi ti shi ke ji qi zai da gui mo ji cheng dian lu zhi zao zhong de ying yong / 张海洋等编著 , |
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ISBN:
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978-7-302-61439-5 价格： CNY149.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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423页 照片，图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 清华大学出版社 出版日期： 2023 |
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内容提要:
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本书以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇，随后是逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的解读。此外，还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系，聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是先进过程控制技术在等离子体蚀刻应用方面的重要性及展望，以及虚拟制造在集成电路发展中的应用。 |
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主题词:
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大规模集成电路 集成电路工艺 |
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中图分类法:
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TN405.98 版次： 5 |
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主要责任者:
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张海洋 zhang hai yang 编著 |
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版次:
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2版 |
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附注:
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“十三五”国家重点图书出版规划项目 |
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索书号:
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TN405.98/1233 |