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题名:
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光弹性应力分析 guang tan xing ying li fen xi / (英)柯斯克(A.Kuske),(英)罗伯逊(G.Robertson)著 , 王燮山等译 |
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ISBN:
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价格： ￥1.85 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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515页 20cm |
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出版发行:
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出版地： 上海 出版社： 上海科学技术出版社 出版日期： 1979 |
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主题词:
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光弹性-应力分析 |
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主题词:
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应力分析-光弹性 |
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中图分类法:
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O348.1 版次： 3 |
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中图分类法:
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O343 版次： |
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主要责任者:
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柯斯克 ke si ke 著 |
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主要责任者:
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罗伯逊 luo bo xun 著 |
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次要责任者:
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王燮山 wang xie shan 译 |
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附注:
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书名原文:Photoelastic stress analysis |
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附注:
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并列题名：Photoelastic stress analysis |
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索书号:
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O343/4280 |