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题名:
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半导体中离子注入 ban dao ti zhong li zi zhu ru / (英)加特(Carter,G.),(英)格兰特(Grant,W.A.)著 , 张光华,赵越译 |
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ISBN:
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价格： ￥1.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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245页 20cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 国防工业出版社 出版日期： 1982 |
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主题词:
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半导体-离子注入 |
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主题词:
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离子注入-半导体 |
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中图分类法:
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TN305.3 版次： 3 |
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中图分类法:
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TG305.3 版次： |
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主要责任者:
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卡特 ka te 著 |
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主要责任者:
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Carter Carter 著 |
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主要责任者:
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格兰特 ge lan te 著 |
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主要责任者:
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Grant Grant 著 |
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次要责任者:
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张光华 zhang guang hua 译 |
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次要责任者:
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赵越 zhao yue 译 |
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附注:
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书名原文:Ion implantion of semiconductors. |
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附注:
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著者通译:卡特 |
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附注:
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并列题名：Ion implantion of semiconductors |
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索书号:
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TG305.3/4054 |