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题名:
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半导体硅锗中的离子注入 ban dao ti gui zhe zhong de li zi zhu ru / (美)迈耶(J.W.Mayer等著 , 余怀之等译 |
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ISBN:
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价格： ￥0.97 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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290页 19cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 科学出版社 出版日期： 1979 |
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主题词:
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元素半导体-硅-离子注入 |
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主题词:
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硅-元素半导体-离子注入 |
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主题词:
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离子注入-硅-元素半导体 |
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主题词:
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元素半导体-锗-离子注入 |
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主题词:
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锗-元素半导体-离子注入 |
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主题词:
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离子注入-锗-元素半导体 |
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中图分类法:
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TN305.3 版次： 3 |
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主要责任者:
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迈耶 mai ye 著 |
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次要责任者:
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余怀之 yu huai zhi 译 |
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附注:
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书名原文:Ion implantation in semiconductors silicon and germanium |
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附注:
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并列题名：Ion implantation in semiconductors silicon and germanium |
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索书号:
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TN305.3/3047 |