检索条件： 光刻设备 ( 主题词 )
责任者 魏劲松
出版信息 清华大学出版社 ,2022
ISBN 978-7-302-60745-8
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激光热敏光刻：原理与方法：principle and method
魏劲松.清华大学出版社,2022.
责任者 王向朝,戴凤钊
出版信息 科学出版社 ,2021
ISBN 978-7-03-067354-1
光刻机像质检测技术．上册
王向朝,戴凤钊.科学出版社,2021.
ISBN 978-7-03-067355-8
光刻机像质检测技术．下册
出版信息 科学出版社 ,2022
ISBN 978-7-03-065792-3
集成电路与光刻机
王向朝,戴凤钊.科学出版社,2022.
责任者 雷吉梅克
出版信息 人民邮电出版社 ,2022
ISBN 978-7-115-54518-3
光刻巨人：ASML崛起之路
雷吉梅克.人民邮电出版社,2022.
出版信息 人民邮电出版社 ,2020
雷吉梅克.人民邮电出版社,2020.
责任者 佐藤淳一
出版信息 机械工业出版社 ,2022
ISBN 978-7-111-70801-8
图解入门 半导体制造设备基础与构造精讲
佐藤淳一.机械工业出版社,2022.
责任者 吴元庆,刘春梅,王洋
出版信息 化学工业出版社 ,2023
ISBN 978-7-122-43803-4
图解芯片制造技术
吴元庆,刘春梅,王洋.化学工业出版社,2023.
责任者 韦格纳
出版信息 华中科技大学出版社 ,2015
ISBN 978-7-5609-6963-3
极端非线性光学
韦格纳.华中科技大学出版社,2015.
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